在高精密、高要求的洁净室行业中,气流流速的控制是一个非常重要的环节,使用精确的传感器配合控制系统以实现气流速度受控的要求
在层流状态的生产过程中,气流从顶部以层流状态送出,污染源来自操作者及生产过程的挥发,在挥发以及产生污染的过程中,污染被层流气体带走,当传感器探测到送风风速小于0.1m/s时,系统报警,以告知操作者,以便能迅速采取措施恢复受控状态。
电子、制药、生物污染控制等
如CD生产中,上涂层的步骤需要洁净的空气用于挥发溶剂,需要精确的控制气流速度是最基本的要求。
在GMP中,要求控制的速度是0.45m/s;在一些半导体行业中要求控制的速度是1.0m/s,根据洁净度的不同,控制的速度也不同,如ISO1-3级洁净室要求截面风速为0.3-0.5m/s,在ISO4-5级洁净室要求截面风速为0.2-0.4m/s。
高精度
极短的响应时间
卫生设计
耐化学性
便于清洗
GMP的标准设计